王焜
助理研究员
电子邮箱:k.wang@hnas.ac.cn
王焜，墨子实验室助理研究员，主要从事宽禁带半导体器件及铁电材料研究。主要研究方向包括：（1）氮化镓基射频功率器件的设计与开发；（2）氧化铪基铁电薄膜及其器件应用的研究；（3）金属氧化物薄膜晶体管的设计与开发。参与国家重点研发计划、湖北省JD攻关项目。以第一作者及通讯作者在Chemical Engineering Journal，IEEE Electron Device Letters，IEEE Transactions on Electron Devices等期刊上发表多篇SCI论文。
教育经历
2016.09-2020.06 山东大学（威海） 应用物理学专业 理学学士
2020.09-2022.06 武汉大学 微电子学与固体电子学专业 工学硕士
2022.09-2025.06 武汉大学 微电子学与固体电子学专业 工学博士
工作经历
2025.06至今 墨子实验室 助理研究员
荣誉奖项
山东大学优秀学生奖学金
山东大学2020届优秀毕业生
武汉大学优秀学业奖学金
武汉大学创新实践先进个人
武汉大学2025届优秀毕业生
近五年代表性论文、专利
Kun Wang, Jiaxian Wan, Keyue Chen, Zexin Tu, Hao Wu*, Chang Liu*. Hf0.5Zr0.5O2 based ferroelectric gate AlGaN/GaN HEMTs with steep subthreshold swings. IEEE Transactions on Electron Devices 70(11): 6082-6085(2023).
Kun Wang, Sizhe Li, Liwei Ji, Jiaxian Wan, Zexin Tu, Hao Wu*, Chang Liu*. Atomic layer deposited ZnO negative capacitance thin-film transistors withHf0.5Zr0.5O2-based ferroelectric gates. IEEE Electron Device Letters 45(12): 2399-2402(2024).
Kun Wang, Jiaxian Wan, Liwei Ji, Zexin Tu, Zhiyv Zeng, Hao Wu*, Chang Liu*. Multilayer nanolaminate Hf0.5Zr0.5O2 thick films with high endurance and remnant polarization. Chemical Engineering Journal 510(15): 161787(2025)
Kun Wang, Xue Chen, Zhiyu Zeng, Xi Su, Tao Guo, Zexin Tu, Jiaxian Wan, Liwei Ji, Hao Wu, Chang Liu. High performance annealing-free thin film transistors with 7-nm In0.72Ga0.28O/13-nm In0.46Ga0.54O homojunction channel. Applied Physics Letters 127(8): 092105(2025).
Enkai Guo, Yifu He, Fen Zhong, Bowen Fu, Kun Wang, Guangxu Cai, Changzhong Jiang, Feng Ren. Preparing Al2O3/TiO2 nano-multilayers on the surface of FeAl/Al2O3 coating as tritium permeation barrier. Nuclear Fusion 65(1): 016061(2025).
Zexin Tu, Kun Wang, Liwei Ji, Jiaxian Wan, Qiren Luo, Hao Wu, Chang Liu. SnSe ambipolar thin film transistor arrays with copper-assisted exfoliation. Applied Surface Science 617: 156517(2023).
Yingzhao Geng, Xu Li, Kun Wang, Zhanheng Yan, Zhe Liu, Yunjie Ping, Hao Wu, Qianhui Mao, Haidong Li, Chunqing He, Libing Qian. Atomically smooth sulfonated poly(ether ether ketone) thin films for high-performance protonic field-effect transistors. Chemical Engineering Science 323(15): 123226(2026).
